聚对二甲苯涂层概览
聚对二甲苯敷形涂层
聚对二甲苯是一系列由对二甲苯制成的聚合物的总称,作为敷形涂层,其出色性能得到了广泛认可。聚对二甲苯涂层的独特之处在于,它是在室温下采用气相沉积工艺涂敷。聚对二甲苯具有化学稳定性,以及出色的防潮性能、化学阻隔性和介电特性。这种涂层还具有优异的热稳定性、重要的机械特性和高抗拉强度。
聚对二甲苯变体
- 聚对二甲苯 N是一种主要的介电材料,具有非常低的介电损耗因子、高介电强度以及不随频率变化的低介电常数。
- 聚对二甲苯 C兼具优良的电性能和物理性能,湿气和腐蚀性气体的渗透性非常低。
- 聚对二甲苯 D的特性与聚对二甲苯 C相似,能承受的温度比聚对二甲苯 C略高。
- 聚对二甲苯 HT适用于高温(短期耐温可达450°C)以及需具备长期紫外线稳定性的应用场合。
- 无卤素的ParyFree®具备聚对二甲苯C的先进阻隔性能,同时其机械和电性能优于其他市售聚对二甲苯。
聚对二甲苯涂层的特性
- 超薄、均匀的薄膜
- 化学阻隔性和防潮性能
- 出色的电性能
- 优异的热稳定性
- 生物相容性
- 干膜润滑性
- 无卤素变体
SCS的优势
- 全球多家涂敷中心为制造商和供应商提供涂敷服务
- 涂敷中心通过AS9100 和 ISO 9001 认证
- 生产件批准程序 (PPAP)
- 获得 UL (QMJU2) 认可
- 符合RoHS指令和REACH法规要求
- 满足 IPC-CC-830 的要求
- 在敷形涂层领域拥有50年经验
聚对二甲苯敷形涂层涂敷工艺
聚对二甲苯沉积工艺包括两部分:科学和“艺术”。聚对二甲苯采用专用真空沉积设备在室温下涂敷。聚对二甲苯聚合物在分子级发生沉积,膜基本一次“生长”一个分子。这是相关的科学原理,而聚对二甲苯“艺术”则基于SCS在过去50年来不断精进的专业技术和能力,确保稳定地实现聚对二甲苯的全部防护性能。
点击此处,了解聚对二甲苯敷形涂层工艺的科学原理和“艺术”。
涂敷聚对二甲苯的部件返工
由于聚对二甲苯的耐化学性和耐溶剂性,对涂敷聚对二甲苯部件的返工不如其他涂层那样容易。借助准分子激光和各种研磨技术等机械手段可以去除聚对二甲苯。涂层被去除后,便可以对电路板进行返工,接下来可以重新涂敷聚对二甲苯,或者根据客户的喜好和要求,使用替代涂层进行涂敷。